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等离子体是物质存在的一种基本形态 (被称 为物质的第四态),是由原子,电子,分子,离子或 自由基组合而成,等离子清洗就是通过物理、化学 作用对被清洗物表面进行处理,实现去除分子水 平污染物的一种工艺过程,同时也可提高其表面 活性。
微波等离子是由工作频率为 2.45 GHz 的微 波激发工艺气体放电, 在正负极磁场作用下的谐 振腔体内产生等离子体,该谐振腔体位于反应仓 体旁边,磁控管连接微波发生器,因为整个放电过 程不需要正负电极,所以产生自偏压极小,从根本 上避免了静电放电损伤。等离子体激发频率和自 偏压的关系如图 1 所示。

微波等离子清洗与传统湿法清洗相比,不需 要使用大量的酸、碱、有机溶剂等,不会给环境带 来任何污染,有利于环保和人员安全,同时该清洗 技术的均匀性、重复性和可控性非常好,具有三维 处理能力,可以进行方向选择。 微波等离子清洗与低频或射频放电产生的等 离子体相比,它的特点是没有正负电极,自偏压很 小,不会产生放电污染,有效防止静电损伤;等离 子密度高,生产效率高;离子运动冲击小,不会产 生 UV(紫外线)辐射,尤其适用于一些敏感电路 的制程清洗。
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